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中国电科实现我国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展

来源:作者: 日期:2021-03-18 浏览:

记者17日从中国电子科技集团有限公司得悉,该集团旗下配备子集团已成功完成离子注入机全谱系产品国产化,可为全球芯片制作企业供给离子注入机一站式解决方案。

离子注入机是芯片制作中的要害配备。在芯片制作过程中,需求掺入不同品种的元素按预订方法改动资料的电功能,这些元素以带电离子的方式被加速至预订能量并注入至特定半导体资猜中,离子注入机便是履行这一掺杂工艺的芯片制作设备。

据介绍,中国电科接连打破高功能离子源、高速晶圆传输等“卡脖子”技能,自主研制中束流、大束流、高能、特种使用及第三代半导体等离子注入机,工艺段掩盖至28nm,累计构成中心发明专利413项,完成我国芯片制作范畴全谱系离子注入机自主立异开展,有用缓解我国芯片制作范畴断链、短链难题。

配备子集团有关负责人表明,下一步,企业将瞄准高端,紧跟先进工艺开展,加速研制适用于更先进工艺节点的离子注入机并活跃推动产业化。

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